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  • 循環(huán)加熱器 半導(dǎo)體用溫控設(shè)備

    【無錫冠亞】循環(huán)加熱器 半導(dǎo)體用溫控設(shè)備,應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    更新時(shí)間:2025-01-17

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 溫控加熱器 半導(dǎo)體溫控設(shè)備TES

    【無錫冠亞】溫控加熱器 半導(dǎo)體溫控設(shè)備TES,應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    更新時(shí)間:2025-01-17

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  • 半導(dǎo)體晶圓快速冷卻系統(tǒng) 芯片散熱水冷機(jī)

    【無錫冠亞】半導(dǎo)體晶圓快速冷卻系統(tǒng) 芯片散熱水冷機(jī),冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測(cè)試環(huán)節(jié)的溫度精準(zhǔn)控制,40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機(jī)熱氣加熱,半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì)、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動(dòng)泵,經(jīng)過24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行拷機(jī)。

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  • 晶圓冷卻腔體測(cè)溫裝置 單晶硅冷卻循環(huán)裝置

    【無錫冠亞】晶圓冷卻腔體測(cè)溫裝置 單晶硅冷卻循環(huán)裝置,冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測(cè)試環(huán)節(jié)的溫度精準(zhǔn)控制,40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機(jī)熱氣加熱,半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì)、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動(dòng)泵,經(jīng)過24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行拷機(jī)。

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  • 半導(dǎo)體晶圓冷卻裝置 硅片循環(huán)水冷卻機(jī)

    【無錫冠亞】半導(dǎo)體晶圓冷卻裝置 硅片循環(huán)水冷卻機(jī) ,冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測(cè)試環(huán)節(jié)的溫度精準(zhǔn)控制,40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機(jī)熱氣加熱,半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì)、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動(dòng)泵,經(jīng)過24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行拷機(jī)。

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  • 硅片快速冷卻裝置 晶圓快速水冷機(jī)

    【無錫冠亞】硅片快速冷卻裝置 晶圓快速水冷機(jī) ,冠亞制冷的半導(dǎo)體控溫chiller主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測(cè)試環(huán)節(jié)的溫度精準(zhǔn)控制,40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機(jī)熱氣加熱,半導(dǎo)體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì)、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動(dòng)泵,經(jīng)過24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行拷機(jī)。

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